アッシング
ashing
ウェハ上のレジスト等を気相中で分解・除去する工程のことを指します。ICのリソグラフィ工程で、フォトレジストを塗布・露光・現像し、エッチングなどのマスクとして利用した後に、酸素プラズマなどで反応させ、不要となったフォトレジストを除去します。
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