エキシマレーザ
excimer laser
IC のリソグラフィ（露光）工程で用いるレーザ光を発生させる装置のことを指します。工業用の用途としては、機械加工や半導体製造におけるフォトリソグラフィや、薄膜作製方法にも一般的に用いられています。レーザーの種類にはKrF（フッ化クリプトンエキシマレーザ、波長248nm）、ArF（フッ化アルゴンエキシマレーザ、波長193nm）、F2（フッ素エキシマレーザ、波長157nm）などがあり、KrFはハーフピッチ0.25 〜 0.13μm の量産に、またArFは同0.13 〜 0.07μm 用として採用されています。
- ホームページ上では公開されていない非公開求人も含め、80,000件以上の求人
- 個人では入手が困難な、生の企業情報
- キャリアカウンセリングや応募書類、面接、退職手続き等のアドバイス
- 面接日時の設定や給与、入社時期交渉の代行
ご登録いただければ、上記のサービスを無料で提供いたします。
お申し込み後の連絡も24時間以内に差し上げますので、お待たせいたしません。
職務経歴書や履歴書を既にお持ちの方は、メールでお送りいただくことも可能です。
