スパッタリング
sputtering
成膜とエッチングの両方の意味を持つ物理的気相成長法（PVD）の一つです。真空中に不活性ガスを注入しながら電極に電圧を加えると、グロー放電が発生します。このときプラズマの中のイオンが陰極のターゲットに衝突して、原子をはじき出す現象をスパッタといいます。これを利用して気相成長やエッチングを行います。
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