リソグラフィ
lithography
液晶パネルや半導体の基盤の作成などに用いられる回路パターンを、ウェハ上に露光転写する行程や技術のことを指します。露光装置ではウェハにレジスト（感光剤）塗布し、これにマスクのパターンを焼き付け、現像します。この仕組みからリソグラフィ（石版）と呼ばれます。レジストの凹凸パターンは、このときの光の照射具合によって現像後のレジストの残り具合が変化し、決定されます。このレジストのパターンを基に、エッチング（削り取り）、デポジション（別の材料を堆積）、ドーピング（適当な不純物を染込ませる）などの微細な加工をウェハに加えていきます。そのほか、紫外線を使う光露光、電子線露光、X線露光などがあります。
