ステッパ
stepper
IC製造工程のうち、ウェハ上にマスクパターンを転写する露光工程で使用する縮小投影露光装置のことです。転写時の縮小率は、4 対1、5 対1、10 対1などがあり、露光光源には可視光のg 線（波長436nm）、紫外線のi 線（波長365nm）、エキシマレーザのKrF（波長248nm）、ArF（波長193nm）などを用います。最近では「スキャナ方式」と呼ばれる、縮小投影レンズをステージに同期させて移動し、連続的にマスクを走査するステッパが採用されています。露光範囲が広がり、チップサイズの大型化に対応しています。マスク（レティクル）をレンズ光学系を介してウェハ上に縮小投影し、繰り返し転写（Step and Repeat）することからこの名前がつきました。
