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エキシマレーザ

excimer laser

IC のリソグラフィ(露光)工程で用いるレーザ光を発生させる装置のことを指します。工業用の用途としては、機械加工や半導体製造におけるフォトリソグラフィや、薄膜作製方法にも一般的に用いられています。レーザーの種類にはKrF(フッ化クリプトンエキシマレーザ、波長248nm)、ArF(フッ化アルゴンエキシマレーザ、波長193nm)、F2(フッ素エキシマレーザ、波長157nm)などがあり、KrFはハーフピッチ0.25 〜 0.13μm の量産に、またArFは同0.13 〜 0.07μm 用として採用されています。

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