エキシマレーザ
excimer laser
IC のリソグラフィ（露光）工程で用いるレーザ光を発生させる装置のことを指します。工業用の用途としては、機械加工や半導体製造におけるフォトリソグラフィや、薄膜作製方法にも一般的に用いられています。レーザーの種類にはKrF（フッ化クリプトンエキシマレーザ、波長248nm）、ArF（フッ化アルゴンエキシマレーザ、波長193nm）、F2（フッ素エキシマレーザ、波長157nm）などがあり、KrFはハーフピッチ0.25 〜 0.13μm の量産に、またArFは同0.13 〜 0.07μm 用として採用されています。
